1樓:匿名使用者
si-h和si-cl的鍵能分別是:318kj/mol和381kj/mol,所以si-cl更穩定。
si-h,si-h2哪個對鈍化效果有影響
2樓:匿名使用者
我們知道,鐵、鋁在稀hno3或稀h2so4中能很快溶解,但在濃hno3或濃h2so4中溶解現象幾乎完全停止了,碳鋼通常很容易生鏽,若在鋼中加入適量的ni、cr,就成為不鏽鋼了。金屬或合金受一些因素影響,化學穩定性明顯增強的現象,稱為鈍化。由某些鈍化劑(化學藥品)所引起的金屬鈍化現象,稱為化學鈍化。
如濃hno3、濃h2so4、hclo3、k2cr2o7、kmno4等氧化劑都可使金屬鈍化。金屬鈍化後,其電極電勢向正方向移動,使其失去了原有的特性,如鈍化了的鐵在銅鹽中不能將銅置換出。此外,用電化學方法也可使金屬鈍化,如將fe置於h2so4溶液中作為陽極,用外加電流使陽極極化,採用一定儀器使鐵電位升高一定程度,fe就鈍化了。
由陽極極化引起的金屬鈍化現象,叫陽極鈍化或電化學鈍化。
金屬處於鈍化狀態能保護金屬防止腐蝕,但有時為了保證金屬能正常參與反應而溶解,又必須防止鈍化,如電鍍和化學電源等。
si-h鍵與si-o鍵鍵能如何比較
3樓:瑞秋格陵
就看看這兩種鍵對應物質的穩定性大小了,一個矽化氫,一個二氧化矽,矽化氫很不穩定,在空氣裡會自燃生成二氧化矽和水,這是由不穩定向穩定轉化,物質越穩定鍵能越大
氮化矽中si-h鍵含量多少好
4樓:匿名使用者
氮化矽來一般可用作鈍化塗層,中介絕緣層源、光學器件的介電塗層,有時可用作柵介質層,一般的等離子體澱積氮化矽方法是用不同組分的sih_4/nh_3 /n_2和惰性氣體載體澱積而成,但薄膜裡含有高達30%(at.)的氫。從而在柵氧化層附近形成缺陷而引起mos器件的不穩定。
許多研究者認為這是由於 氮化物裡的si-h鍵所引起的麻煩,因此必須努力減氫濃度,或者設法避免si-h鍵的有害影響。
5樓:匿名使用者
si3n4中沒有si-h鍵
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